回流法、图案形成方法及液晶显示装置用薄膜电晶体元件之制造方法

摘要

在回流处理的抗蚀剂103之表面设有高低差，且具有：厚膜部103a和相对上膜厚较薄的薄膜部103b。厚膜部103a是形成在标靶区域S1之侧，且薄膜部103B是形成在禁止区域S2之侧。由于厚膜部103a对稀释剂环境的露出面积较大，因此软化快，且越过段差D而朝向标靶区域S1进行流动。因薄膜部103b对稀释剂环境的露出面积，相较于厚膜部103a还小，故软化难以进行，比起厚膜部103a，流动性不大，不会到达禁止区域S2 ，流动停止。