发明名称 |
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD |
摘要 |
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申请公布号 |
EP1622191(A4) |
申请公布日期 |
2008.01.09 |
申请号 |
EP20040729297 |
申请日期 |
2004.04.23 |
申请人 |
NIKON CORPORATION |
发明人 |
OMURA, YASUHIRO;IKEZAWA, HIRONORI;ISHIDA, KUMIKO |
分类号 |
H01L21/027;G02B13/24;G03F7/20 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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