发明名称 |
具有沟渠绝缘的半导体电路装置及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及具有沟渠绝缘的半导体电路装置及其制造方法。根据本发明地一种电路装置,具有一个穿过一个电荷存储层(18)及一个掺杂半导体层(14)的沟渠。这个沟渠同时具有多种不同的作用,包括在相邻的组件之间形成绝缘的作用、将电荷存储层结构化的作用、以及将掺杂半导体层(14)区隔为不同区段的作用。 |
申请公布号 |
CN100361305C |
申请公布日期 |
2008.01.09 |
申请号 |
CN200410005574.4 |
申请日期 |
2004.02.14 |
申请人 |
因芬尼昂技术股份公司 |
发明人 |
A·格拉茨;K·克诺布洛奇;F·舒勒 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01);H01L21/8247(2006.01);G11C16/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01) |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
余刚;李丙林 |
主权项 |
1.一种半导体电路装置(76),具有一个衬底(10),在此衬底(10)上按照给定的顺序依次承载:-第一种导电型的一个掺杂半导体层(14),-一个电绝缘层(16),-一个适于用来储存电荷的导电或电绝缘的电荷存储层(18),所述半导体电路装置至少具有一个深沟渠(32),所述深沟渠(32)穿过电荷存储层(18)并延伸至掺杂半导体层(14)内,并且具有至少一个比所述穿过电荷存储层(18)的深沟渠(32)的深度较浅但宽度较大的浅沟渠(100),所述浅沟渠(100)设置在所述第一种导电型的半导体层(14)中。 |
地址 |
德国慕尼黑 |