发明名称 具有沟渠绝缘的半导体电路装置及其制造方法
摘要 本发明涉及具有沟渠绝缘的半导体电路装置及其制造方法。根据本发明地一种电路装置,具有一个穿过一个电荷存储层(18)及一个掺杂半导体层(14)的沟渠。这个沟渠同时具有多种不同的作用,包括在相邻的组件之间形成绝缘的作用、将电荷存储层结构化的作用、以及将掺杂半导体层(14)区隔为不同区段的作用。
申请公布号 CN100361305C 申请公布日期 2008.01.09
申请号 CN200410005574.4 申请日期 2004.02.14
申请人 因芬尼昂技术股份公司 发明人 A·格拉茨;K·克诺布洛奇;F·舒勒
分类号 H01L27/115(2006.01);H01L21/8247(2006.01);G11C16/00(2006.01) 主分类号 H01L27/115(2006.01)
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人 余刚;李丙林
主权项 1.一种半导体电路装置(76),具有一个衬底(10),在此衬底(10)上按照给定的顺序依次承载:-第一种导电型的一个掺杂半导体层(14),-一个电绝缘层(16),-一个适于用来储存电荷的导电或电绝缘的电荷存储层(18),所述半导体电路装置至少具有一个深沟渠(32),所述深沟渠(32)穿过电荷存储层(18)并延伸至掺杂半导体层(14)内,并且具有至少一个比所述穿过电荷存储层(18)的深沟渠(32)的深度较浅但宽度较大的浅沟渠(100),所述浅沟渠(100)设置在所述第一种导电型的半导体层(14)中。
地址 德国慕尼黑