| 发明名称 | 液晶显示器件的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种液晶显示器件的制造方法，包括步骤：在第一基板上形成栅极和栅线，在该栅极上形成栅绝缘层，在该栅绝缘层上形成有源层，并在该有源层上形成欧姆接触层，在该欧姆接触层上形成彼此隔开的源极和漏极，形成与该栅线交叉的数据线，在干蚀设备的腔室内蚀刻位于该源极和漏极之间的那部分欧姆接触层，以使一部分有源层暴露，在留在该腔室内的第一基板上形成钝化层，该钝化层覆盖这部分有源层，形成与该漏极相连接的像素电极，以及在该像素电极与第二基板之间夹入液晶层。 | ||
| 申请公布号 | CN101097382A | 申请公布日期 | 2008.01.02 |
| 申请号 | CN200710126011.4 | 申请日期 | 2007.06.29 |
| 申请人 | LG.菲利浦LCD株式会社 | 发明人 | 金孝昱 |
| 分类号 | G02F1/1362(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1362(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
| 主权项 | 1.一种液晶显示器件的制造方法，包括步骤：在第一基板上形成栅极和栅线；在该栅极上形成栅绝缘层；在该栅绝缘层上形成有源层，并且在该有源层上形成欧姆接触层；在该欧姆接触层上形成彼此隔开的源极和漏极；形成与该栅线交叉的数据线；在干蚀设备的腔室内蚀刻位于该源极和漏极之间的那部分欧姆接触层，以使一部分有源层暴露；在留在该腔室内的第一基板上形成钝化层，该钝化层覆盖这部分有源层；形成与该漏极相连接的像素电极；以及在该像素电极与该第二基板之间夹入液晶层。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||