配置辐射源的方法以及用于依次辐照衬底的系统

摘要

一种配置J个电磁辐射源(J≥2)以依次辐照衬底的方法。每个源具有发射的辐射的波长和角分布的不同函数。所述衬底包括基层和在所述基层上的I个叠层(I≥2；J≤I)。P_j表示在每个叠层上来自源j的相同指定源的垂直入射能量通量。在I个独立的曝光步骤的每个中，同时暴露所述I个叠层至来自所述J个源的辐射。V_i和S_i分别表示在曝光步骤(i＝1，2...，I)中经过叠层i透射进入所述衬底的实际和目标能量通量。计算t(i)和P_t(i)以便：与任何其它源的配置比较，通过源t(i)的配置，i＝1，...I，V_i最大，并且作为|V₁-S₁|，|V₂-S₂|，...，|V_I-S_I|的函数的误差E关于P_i (i＝1，...，I)近似最小化。

主权项

1.一种配置辐射源以依次辐照衬底的方法，所述方法包括以下步骤：指定J个不同的电磁辐射源标记为源1，源2，...，源J，其中所述J个源的每个源以其发射的辐射的波长和角分布的不同函数为特征，所述J≥2；指定衬底，所述衬底包括基层和在所述基层上的I个叠层，所述I≥2，其中Pj表示在每个叠层上来自源j的相同的垂直入射能量通量以便Pj与源j对应，j＝1，2...，J，其中J≤I；指定目标能量通量Si，其目标为经过每个叠层i透射进入所述衬底以便Si与每个叠层i对应，i＝1，2...，I；为了依次暴露所述I个叠层至来自所述J个源的辐射以便在I个独立的曝光步骤的每个曝光步骤i中将所述I个叠层同时暴露于所述J个源的仅一个源t(i)，计算t(i)和Pt(i)，以便与所述J个源的任何剩余源的配置比较，通过所述仅一个源t(i)的配置，i＝1，2...，I，在曝光步骤i中经过叠层i透射进入所述衬底的实际能量通量Vi最大，并且其中作为|V1-S1|，|V2-S2|，...，|VI-SI|的函数的误差E关于Pi近似最小化，i＝1，2...，I。