| 主权项 |
1.一种半导体处理装置之药液浓度控制装置,其特 征包括: 浓度测定机构,用以测定药液的浓度; 偏移观测机构,用以观测浓度回馈控制系统在经过 迟延时间之后的浓度的变化量; 补充量演算机构,用以演算药液的补充量; 定量补充处理机构,用以处理各药液之补充量,使 该补充量演算机构所得之各药液补充量之总和与 事前设定好的基准补充量相等; 浓度预测机构,用以预测当已补充该定量补充处理 机构所处理的补充量之后所达到的浓度;以及 补充控制机构,以该定量补充处理机构所处理的补 充量对药液的补充作控制。 2.如申请专利范围第1项之半导体处理装置之药液 浓度控制装置,其中该补充量演算机构,系根据由 该浓度测定机构所测定的浓度数据,及由该偏移观 测机构所观测的浓度的变化量,以及由该浓度预测 机构所预测的浓度预测数据,演算药液的补充量。 3.如申请专利范围第1项之半导体处理装置之药液 浓度控制装置,其中该定量补充处理机构,系根据 药液的补充优先顺序来处理各药液的补充量。 4.如申请专利范围第1项之半导体处理装置之药液 浓度控制装置,其中该补充控制机构,系当药液的 液面位置比既定的位置还低的时候,进行药液的补 充。 图式简单说明: 第1图系方块图,显示具备药液浓度控制装置的半 导体处理装置的构成。 第2图系方块图,显示本发明「半导体处理装置之 药液浓度控制装置」的控制部的构成。 第3图系显示「半导体处理装置之药液浓度控制装 置」的浓度控制的流程图。 第4图系方块图,显示使用液面计的「半导体处理 装置之药液浓度控制装置」的构成。 第5图显示进行习知半导体处理装置之药液浓度控 制的装置的方块图。 第6图显示藉由补充间隔计时器及受其同步启动的 补充计时器,进行药液补充的时机。 第7图显示浓度控制上浓度数据的变化。 第8图显示浓度计之浓度数据的变化。 |
