发明名称 半导体电热膜之基材表面毛细孔填补的方法
摘要 本发明系提供一种半导体电热膜之基材表面毛细孔填补的方法,其主要系将一经洗净乾燥后的陶瓷基材表面上膜(上釉),使基材表面更平滑,再予以置入一高温炉具中做加热,使基材的表面活化后,将上述调合妥当的流体材料,喷入该容置基材的炉具中,使喷入之流体瞬间起高温雾化分解氧化还原作用,形成带电位之离子均匀的附着于其表面上,因此除了直接于基材的表面形成一道半导体电热膜外,更因基材表面上膜(上釉)而更平滑,以防止基材表面毛细孔吸水产生电解而破坏电热膜者。
申请公布号 TW200802742 申请公布日期 2008.01.01
申请号 TW095120368 申请日期 2006.06.08
申请人 春合昌股份有限公司 发明人 叶慧君
分类号 H01L23/12(2006.01);C04B41/86(2006.01) 主分类号 H01L23/12(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
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