发明名称 | 半导体电热膜之基材表面毛细孔填补的方法 | ||
摘要 | 本发明系提供一种半导体电热膜之基材表面毛细孔填补的方法,其主要系将一经洗净乾燥后的陶瓷基材表面上膜(上釉),使基材表面更平滑,再予以置入一高温炉具中做加热,使基材的表面活化后,将上述调合妥当的流体材料,喷入该容置基材的炉具中,使喷入之流体瞬间起高温雾化分解氧化还原作用,形成带电位之离子均匀的附着于其表面上,因此除了直接于基材的表面形成一道半导体电热膜外,更因基材表面上膜(上釉)而更平滑,以防止基材表面毛细孔吸水产生电解而破坏电热膜者。 | ||
申请公布号 | TW200802742 | 申请公布日期 | 2008.01.01 |
申请号 | TW095120368 | 申请日期 | 2006.06.08 |
申请人 | 春合昌股份有限公司 | 发明人 | 叶慧君 |
分类号 | H01L23/12(2006.01);C04B41/86(2006.01) | 主分类号 | H01L23/12(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
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