| 发明名称 | 用于处理基底的系统和方法 | ||
| 摘要 | 一种用于处理基底的系统，该系统设有至少一个处理腔室(1)以利用真空工艺处理至少一个基底(5)，其中所述处理腔室(1)设有能够由关闭体(15)关闭的基底入口(13)，并且该系统设有输送装置(8)，该装置至少被设置为用于移动所述关闭体(15)，并且所述输送装置(8)设置为用于至少在位于处理腔室(1)外侧的位置和位于处理腔室(1)内侧的位置之间输送掩膜(4)，该掩膜用于在所述真空工艺期间至少部分地覆盖所述基底(5)。有利的是，至少基底保持架(2)设有定位装置(50)以便关于彼此地定位基底保持架(2)和掩膜(4)。本发明还提供这种系统的用途。 | ||
| 申请公布号 | CN101094931A | 申请公布日期 | 2007.12.26 |
| 申请号 | CN200480025359.9 | 申请日期 | 2004.08.26 |
| 申请人 | OTB集团有限公司 | 发明人 | 保罗·奥古斯特·玛丽·林德劳夫;马里纳斯·弗朗西斯库斯·约翰努斯·埃弗斯 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01) | 主分类号 | C23C14/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 刘莉婕;杨本良 |
| 主权项 | 1.一种用于处理基底的系统，该系统设有至少一个处理腔室(1)以利用真空工艺处理至少一个基底(5)，其中所述处理腔室(1)设有能够由关闭体(15)关闭的基底入口(13)，并且该系统设有输送装置(8)，该装置至少被设置为用于移动所述关闭体(15)，并且所述输送装置(8)设置为用于至少在位于处理腔室(1)外侧的位置和位于处理腔室(1)内侧的位置之间输送掩膜(4)，该掩膜用于在所述真空工艺期间至少部分地覆盖所述基底(5)。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||