| 发明名称 | 等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 一种等离子体处理装置具有一个腔体，腔体内容纳有至少两个处理平台，处理平台之间被隔离壁隔开，在所述的隔离壁上设有至少一个通道，该通道的宽度与长度比小于1/3。本发明使得各处理平台之间既能保持气压均衡又能使带电粒子不致互相干扰，提升了各处理平台处理条件的均一性。 | ||
| 申请公布号 | CN100358099C | 申请公布日期 | 2007.12.26 |
| 申请号 | CN200510028567.0 | 申请日期 | 2005.08.05 |
| 申请人 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 发明人 | 钱青 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/68(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 逯长明 |
| 主权项 | 1、一种等离子体处理装置具有一个腔体，腔体内容纳有至少两个处理平台，处理平台之间被隔离壁隔开，其特征在于：在所述的隔离壁上设有至少一个通道，该通道的宽度与长度比小于1/3。 | ||
| 地址 | 201201上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号 | ||