| 发明名称 | 具有双温度区的静电吸盘的衬底支架 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种在衬底处理腔室中用于容纳衬底的静电吸盘，包括具有衬底容纳表面和具有多个隔开的台面的相对的背面的陶瓷圆盘。电极嵌入在陶瓷圆盘中以产生静电力以保持衬底。位于陶瓷圆盘的外围和中心部分的加热线圈允许对陶瓷圆盘的中心和外围部分进行温度独立控制。通过具有容纳空气的凹槽的底座支撑吸盘。吸盘和底座协作以允许在腔室中调整衬底的温度分布。 | ||
| 申请公布号 | CN101093811A | 申请公布日期 | 2007.12.26 |
| 申请号 | CN200710097654.0 | 申请日期 | 2007.04.27 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 亚历山大·马蒂亚申;丹尼斯·库斯;桑托斯·帕纳格保罗斯;约翰·霍兰德 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01);H01L21/67(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/683(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
| 主权项 | 1.一种在处理腔室中用于保持衬底的静电吸盘，所述静电吸盘包括：(a)陶瓷圆盘，其包括衬底容纳表面及包括多个隔开的台面的相对的背面；(b)多个热传送气体导管，穿过陶瓷主体并在所述衬底容纳表面上的开口处终止，以向所述衬底容纳表面提供热传送气体；(c)电极，所述电极嵌入在所述陶瓷圆盘中以产生用于保持放置在所述衬底容纳表面上的衬底的静电力；(d)嵌入在所述陶瓷圆盘中的第一和第二加热线圈，所述加热线圈径向隔离并且围绕彼此同心设置，所述第一加热线圈位于所述陶瓷圆盘的外围部分，而所述第二加热线圈位于所述陶瓷圆盘的中心部分，这样使得所述第一和第二加热线圈允许对所述陶瓷圆盘的中心部分和外围部分进行温度独立控制，并与所述陶瓷圆盘的所述背面上的所述台面协作以允许调整放置在所述陶瓷圆盘的衬底容纳表面上的衬底的温度分布。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||