| 发明名称 |
一种水处理工艺流程 |
| 摘要 |
一种水处理工艺流程：是通过高磁水处理、涡旋混凝、低脉动沉淀、悬浮排物、过滤等工序形成的新水处理组合工艺流程。本流程；发明了“碟辐射沉淀床”；发明了“悬浮物分离腔”；发明了“碟辐射振动频率调解体”。本流程可以广泛应用在上水、中水和下水的处理上。特别在上水的处理上由于碟辐射沉淀和悬浮物分离的使用，大幅度提高了过滤工序所用介质的使用寿命；减少了使用设备的数量；降低了一次性投资；减小了水处理过程的占地面积；提高了制水质量。 |
| 申请公布号 |
CN101092261A |
申请公布日期 |
2007.12.26 |
| 申请号 |
CN200610086957.8 |
申请日期 |
2006.06.20 |
| 申请人 |
高佩显 |
发明人 |
高佩显 |
| 分类号 |
C02F1/48(2006.01);C02F1/52(2006.01);C02F1/24(2006.01) |
主分类号 |
C02F1/48(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
1.一种水处理工艺流程(既高磁水处理、涡旋混凝、低脉动沉淀、悬浮排物、过滤工序组合成的新水处理工艺流程)； |
| 地址 |
110023辽宁省沈阳市铁西区齐贤街114楼833号 |
