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发明名称
晶圆保持体与其制造方法及半导体制造装置
摘要
本发明提供一种晶圆保持体,其可用于于常温以下之温度对晶圆进行处理,尤其适于于CVD装置中使用。本发明为具有晶圆载置面之晶圆保持体1,其由陶瓷构成,于其内部具有用以使对晶圆保持体1进行冷却之冷媒流动之流路3,较好的是进而具备高频产生用电极2。可以如下方式制造上述晶圆保持体1,即,于1片陶瓷基板上形成流路3,以覆盖该流路3之方式,于陶瓷基板上接合至少1片其他陶瓷基板,较好的是进而接合形成有高频产生用电极2之陶瓷基板。
申请公布号
TW200746350
申请公布日期
2007.12.16
申请号
TW096118581
申请日期
2007.05.24
申请人
住友电气工业股份有限公司
发明人
夏原益宏;粟津知之;新间健司;仲田博彦
分类号
H01L21/683(2006.01)
主分类号
H01L21/683(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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