钨系膜之成膜方法、闸极电极之形成方法、半导体装置之制造方法及电脑可读取之记忆媒体

摘要

钨系膜之成膜方法，系具有以下几点：在处理室内配置基板；和交互重复进行对处理室导入W(CO)6气体所造成之钨堆积，与导入含矽气体所造成之钨的矽化或矽堆积来成膜WSi膜；和在W(CO)6气体之供给与含矽气体之供给之间，净化处理室。