供口腔护理组成物用之研磨系统

摘要

提供具有第一和第二研磨剂之口腔用组成物。第一研磨剂较佳具有艾氏(Einlehner)硬度每100,000转数大于约5毫克损失，第二研磨剂较佳具有艾氏硬度每100,000转数小于约5毫克损失。第一研磨剂对第二研磨剂之比例为约1：1.6至约1.6：1，且第一和第二研磨剂较佳存在于口腔用组成物中之量分别为约13％至约21％重量比。口腔用组成物之薄膜清洁比例大于100，辐射活性牙本质磨耗度较佳小于200，且于某些具体例中，较佳小于约175。亦提供使用口腔用组成物之方法。