| 发明名称 | 被构图介质、该介质的制造方法以及磁记录/再现装置 | ||
| 摘要 | 一种被构图介质包括被处理成磁道图形、伺服区图形或数据区图形的磁性膜(33)，以及被填充在所述磁性膜(33)上的磁道图形、伺服区图形或数据图形之间的非磁性填充材料，该填充材料包括基材(34、35)和由不组成所述基材(34、35)的金属构成的阻挡材料(36)。 | ||
| 申请公布号 | CN101083086A | 申请公布日期 | 2007.12.05 |
| 申请号 | CN200710105452.6 | 申请日期 | 2007.05.30 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 喜喜津哲;镰田芳幸;樱井正敏;白鸟聪志 |
| 分类号 | G11B5/65(2006.01);G11B5/84(2006.01) | 主分类号 | G11B5/65(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;李峥 |
| 主权项 | 1.一种被构图介质，其特征在于包括：被处理成用于磁道、伺服区或数据区的图形的磁性膜(33)；以及被填充在所述磁性膜(33)上的用于磁道、伺服区或数据区的各图形之间的非磁性填充材料，该填充材料包括基材(34、35)和由不组成所述基材(34、35)的金属构成的阻挡材料(36)。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||