发明名称 形成多晶矽薄膜之方法
摘要 一种形成多晶矽薄膜之方法,使用雷射照射之连续侧向固化,并且藉由一光学装置之设计将雷射光图形化而在光学装置之透光区域边缘提供周期性之能量分布,以增加晶粒宽度及晶粒尺寸均匀性。该光学装置包括复数个长度为L之第一透光区域;其中,每一该复数个第一透光区域的至少一边缘区域具有一第一周期性形状。
申请公布号 TW200744131 申请公布日期 2007.12.01
申请号 TW095117215 申请日期 2006.05.16
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 朱芳村;林家兴
分类号 H01L21/316(2006.01) 主分类号 H01L21/316(2006.01)
代理机构 代理人 何文渊;陈正益
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号