| 摘要 |
一种可轻易地与有效率地移除形成于一半导体晶圆上的被制造图型，以便能够重复使用半导体晶圆之半导体晶圆再生系统，该系统藉由将粒子喷射至该半导体晶圆的一表面，以一乾燥方式移除半导体晶圆的图型，该系统包括一网眼输送器、一粒子喷射器、摆动装置、收集装置、分离装置、以及一集尘器，该网眼输送器系于该等图型面对一向上方向的一条件下，输送该半导体晶圆，该粒子喷射器系被安装于该网眼输送器之上，并具有至少一个喷嘴，用以将粒子喷向该半导体晶圆的该表面，以移除该半导体晶圆的该等图型，该摆动装置在一垂直于该半导体晶圆沿着该网眼输送器的一输送路径之一平面，摆动该喷嘴，该收集装置被设置于该网眼输送器之下，并收集从该网眼输送器掉落下来的包括粒子、碎屑、以及灰尘在内之粉状物体，该分离装置系被连接至该收集装置以将粒子与碎屑从灰尘中分离，该集尘器系被连接至该分离装置以收集由该分离装置所分离的灰尘。 |
