发明名称 湿式处理装置
摘要 本发明提供一种湿式处理装置,其不使用超音波,而高黏度流体之吸入亦容易,且包含清除残留残渣之清洗喷嘴。本发明之湿式处理装置具备清洗单元11,其包含:供应口2,其具有靠近被清洗物8表面而配设,且用以将由外部所供应之清洗用流体9以带状喷出至被清洗物8表面的细缝状喷出口10;及排出口3,其排出由喷出口10所喷出之清洗用流体9;将清洗单元配置于对于被清洗物8之移动方向正交的方向上,该清洗单元系喷出口10之截面积相对于由外部所供应之清洗用流体9之供应口接收口部的开口截面积,用于将清洗用流体9朝向被清洗物8表面喷出的前端部具有超过1之正数分之1倍的开口截面积。
申请公布号 TWI290738 申请公布日期 2007.12.01
申请号 TW094132368 申请日期 2005.09.19
申请人 未来视野股份有限公司 发明人 富山宪世
分类号 H01L21/302(2006.01) 主分类号 H01L21/302(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种湿式处理装置,其特征在于具备清洗单元,该 清洗单元包含:供应口,其具有靠近被清洗物表面 而配设,且用以将由外部所供应之清洗用流体以带 状喷出至上述被清洗物表面的细缝状喷出口;及排 出口,其排出由上述喷出口所喷出之上述清洗用流 体,且 将清洗单元配置于对于上述被清洗物之移动方向 正交的方向上,该清洗单元系上述喷出口相对于由 外部所供应之上述清洗用流体之供应口的开口截 面积,具有超过1之正数分之1倍的开口截面积。 2.如请求项1之湿式处理装置,其中包含2个接近上 述被清洗物表面而左右对称配设之上述清洗单元, 且上述2个上述清洗单元之间具有共通之排出口。 3.如请求项2之湿式处理装置,其中相对于上述清洗 用流体之供应口之开口截面积,上述排出口之开口 截面积系超过1之正数倍者。 4.如请求项2之湿式处理装置,其中具备对应于上述 被清洗物横宽之长度之开口部,且上述排出口之与 对于上述被清洗物移动方向正交之清洗用流体之 接触面之截面形状自上述喷出口之前端部至上述 排出口之出口形成为圆弧状。 5.如请求项3之湿式处理装置,其中具备对应于上述 被清洗物横宽之长度之开口部,且上述排出口之与 对于上述被清洗物移动方向正交之清洗用流体之 接触面之截面形状自上述喷出口之前端部至上述 排出口之出口形成为圆弧状。 6.如请求项1之湿式处理装置,其中上述清洗单元由 复数个一端抵接于外部固定板之弹性体所支持。 7.如请求项6之湿式处理装置,其中上述弹性体包含 其弹性系数可变之控制机构。 8.如请求项6之湿式处理装置,其中依据事先输入至 上述弹性系数可变之控制机构中的上述清洗单元 重量,可以任意之弹性系数控制上述弹性体。 9.如请求项8之湿式处理装置,其中上述弹性系数可 变之控制机构包含检测由上述供应口所供应之清 洗用流体流量之流量感测器; 藉由输入有上述流量感测器之检测讯号之上述弹 性系数可变之控制机构,控制上述弹性体之弹性系 数。 10.如请求项8之湿式处理装置,其中上述弹性系数 可变之控制机构包含检测由上述供应口所供应之 清洗用流体温度之温度感测器; 藉由输入有上述温度感测器之检测讯号之上述弹 性系数可变之控制机构,控制上述弹性体之弹性系 数。 11.如请求项8之湿式处理装置,其中上述弹性系数 可变之控制机构包含检测上述清洗单元与被清洗 物表面之间隙之间隙感测器; 藉由输入有上述间隙感测器之检测讯号之上述弹 性系数可变之控制机构,控制上述弹性体之弹性系 数。 12.如请求项8之湿式处理装置,其中上述弹性系数 可变之控制机构包含检测上述被清洗物之有无之 被清洗物检测感测器; 藉由输入有上述被清洗物感测器之检测讯号之上 述弹性系数可变之控制机构,控制上述弹性体之弹 性系数。 13.如请求项1之湿式处理装置,其中上述清洗单元 包含挡止器,其于上述清洗单元与上述被清洗物表 面之间隙为特定间隔以下时动作。 14.如请求项1之湿式处理装置,其中上述清洗单元 包含将供应至上述供应口之上述清洗用流体加压 后供应的加压泵及抽吸由上述排出口所排出之上 述清洗用流体的抽吸泵之任一方或其双方。 图式简单说明: 图1系本发明之湿式处理装置实施例1之清洗单元 外观立体图。 图2系图1所示之清洗单元之A-A'截面图。 图3系本发明之湿式处理装置实施例2之清洗单元 截面图。 图4系说明具备先前清洗喷嘴之用于湿式处理之一 结构例的截面图。
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