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发明名称
HALIDE ANIONS FOR METAL REMOVAL RATE CONTROL
摘要
The inventive chemical-mechanical polishing system comprises a polishing component, a liquid carrier, an oxidizing agent, and a halogen anion. The inventive method comprises chemically-mechanically polishing a substrate with the polishing system.
申请公布号
WO2007111855(A3)
申请公布日期
2007.11.15
申请号
WO2007US06709
申请日期
2007.03.16
申请人
CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
发明人
LI, SHOUTIAN
分类号
C09G1/02;C09K3/14
主分类号
C09G1/02
代理机构
代理人
主权项
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