| 主权项 |
1.一种非光敏性聚醯亚胺前驱物组成物,包含: a)一种或多种可溶于-丁内酯(GBL)及氢氧化四甲 铵水溶液之聚醯胺酸,但是,该聚醯胺酸必须也能 够耐受将与聚醯亚胺前驱物组成物一起使用之光 敏性组成物中所用之溶剂; b)一含有-丁内酯之溶剂; c)一种或多种黏着促进剂,其系选自于式I-VI所示之 结构所组成之组群中 其中R1系选自于下列所构成之组群中:H、C1-C10线性 、环状或分枝之烷基、苯基、卤苯基及烷基取代 之苯基,R2系选自于下列所构成之组群中:C1-C10线性 、环状或分枝之烷基、苯基、卤苯基及烷基取代 之苯基或下列基团VII、VIII或IX中之任一 其中R3为C1-C4线性或分枝之烷基或C1-C4线性或分枝 之烷氧基,R4、R5及R6各个独立地为C1-C4线性或分枝 之烷基,m为1至大约4之整数,且n为1至大约5之整数 。 2.依据申请专利范围第1项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中该一种或多种聚醯胺酸系选自式 X之聚醯胺酸所构成之组群中 其中n为从约5至约200之整数,且其中X与Y分别独立 地选自于可含有杂环原子之芳香族及脂肪族基团 。 3.依据申请专利范围第2项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中式X之该一种或多种聚醯胺酸系 藉由将至少一种式XI之酸酐单体与至少一种式XII 之二胺单体反应而制备 且其中该酸酐单体系选自于下列所构成之组群:3,3 ',4,4'-二苯基四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基硫四羧 酸二酐、3,3',4,4'-二苯基四羧酸二酐、3,3',4,4'- 二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基甲烷四羧酸 二酐、2,2',3,3'-二苯基甲烷四羧酸二酐、2,3,3',4'- 二苯基四羧酸二酐、2,3,3',4'-二苯甲酮四羧酸二酐 、3,3',4,4'-二苯醚四羧酸二酐、2,3,6,7-四羧酸二 酐、1,4,5,7-四羧酸二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基) 丙烷二酐、2,2-双(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2- 双(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐、1,3-二苯基六氟 丙烷-3,3,4,4-四羧酸二酐、1,4,5,6-四羧酸二酐、2, 2',3,3'-二苯基四羧酸二酐、3,4,9,10-四羧酸二酐 、1,2,4,5-四羧酸二酐、1,4,5,8-四羧酸二酐、1,8 ,9,10-菲四羧酸二酐、1,1-双(2,3-二羧基苯基)乙烷二 酐、1,1-双(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2,3,4-苯四 羧酸二酐及1,2,4,5-苯四羧酸二酐, 该二胺单体系选自于下列所组成之组群:5(6)-氨基- 1-(4-氨基苯基)-1,3,3-三甲基满、间-苯撑二胺、 对-苯撑二胺、2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基-1,1'- 二苯基、3,4'-二氨基二苯醚、4,4'-二氨基二苯醚、 3,3'-二氨基二苯醚、2,4-甲苯二胺、3,3'-二氨基苯 基、3,4'-二氨基二苯基、4,4'-二氨基二苯基 、3,3'-二氨基二苯基甲烷、4,4'-二氨基二苯基甲烷 、3,3'-二氨基二苯基甲烷、3,4'-二氨基二苯基甲烷 、4,4'-二氨基二苯甲酮、3,3'-二氨基二苯甲酮、3,4 '-二氨基二苯甲酮、1,3-双(4-氨基苯氧基)苯、1,3- 双(3-氨基苯氧基)苯、1,4-双(-氨基丙基)四甲基 二矽氧烷、2,3,5,6-四甲基-对-苯撑二胺、间-苯撑 二甲二胺、对-苯撑二甲二胺、甲撑二胺、丁撑二 胺、戊撑二胺、己撑二胺、2,5-二甲基己撑二胺、 3-甲氧基己撑二胺、庚撑二胺、2,5-二甲基庚撑二 胺、3-甲基庚撑二胺、4,4-二甲基庚撑二胺、辛撑 二胺、壬撑二胺、2,5-二甲基壬撑二胺、癸撑二胺 、乙撑二胺、丙撑二胺、2,2-二甲基丙撑二胺、1, 10-二氨基-1,10-二甲基癸烷、2,11-二氨基十二烷、1, 12-二氨基十八烷、2,17-二氨基二十烷、3,3'-二甲基 -4,4'-二氨基二苯基甲烷、双( 4-氨基环己基)甲烷、双(3-氨基降冰片基)甲烷、3,3 '-二氨基二苯基乙烷、4,4'-二氨基二苯基乙烷及4,4 '-二氨基二苯基硫、2,6-二氨基啶、2,5-二氨基 啶、2,6-二氨基-4-三氟甲基啶、2,5-二氨基-1,3,4- 氧二氮茂、1,4-二氨基环己烷、、4,4'-甲撑二 苯胺、4,4'-甲撑-双(邻-氯苯胺)、4,4'-甲撑-双(3-甲 基苯胺)、4,4'-甲撑-双(2-乙基苯胺)、4,4'-甲撑-双(2 -甲氧基苯胺)、4,4'-氧代-二苯胺、4,4'-氧代-双(2- 甲氧基苯胺)、4,4'-氧代-双(2-氯苯胺)、4,4'-硫代- 二苯胺、4,4'-硫代-双(2-甲基苯胺)、4,4'-硫代-双(2- 甲氧基苯胺)、4,4'-硫代-双(2-氯苯胺)、3,3'-磺醯基 -二苯胺及3,3'-磺醯基-二苯胺。 4.依据申请专利范围第3项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中该酸酐单体含有一化合物,该化 合物系选自于构造式(XIII-XV)所示之化合物所组成 之群组中: 其中Z=系选自于下列所组成之组群:-O-、-S-、-C(CF3) 2-、-CH2-、-SO2-、-NHCO-或-Si(R')2,其中R'为一含有1至8 个碳原子之线性、分枝或环状烷基。 5.依据申请专利范围第4项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中该二胺单体系至少一化合物具有 结构XVI 其中W=系选自于下列所组成之组群:-O-、-S-、-C(CF3) 2-、-CH2-、-SO2-、-NHCO-或Si(R')2-,R'为含有1至8个碳原 子之线性、分枝或环状烷基。 6.依据申请专利范围第5项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中Z为-O-且W为-O-。 7.依据申请专利范围第3项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中该聚醯胺酸系选自于下列所组成 之组群:由4,4'-二氨基二苯醚与3,3',4,4'-二苯醚四羧 酸二酐形成之聚醯胺酸、由4,4'-二胺基二苯醚与95 -85%之3,3',4,4'-二苯醚四羧酸二酐和5-15%之式XI另一 酸酐之混合物所形成之聚醯胺酸。 8.依据申请专利范围第2项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中在式X之聚醯胺酸中二胺对二酐 单元之比率为约0.9至约1。 9.依据申请专利范围第1项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中该聚醯胺酸在该组成物中之百分 比为该组成物重量之约6至约23%。 10.依据申请专利范围第1项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中该聚醯胺酸在该组成物中之百分 比为该组成物重量之约12至约22%。 11.依据申请专利范围第10项之非光敏性聚醯亚胺 前驱物组成物,其中该溶剂占了该组成物重量之约 74%至约92%。 12.依据申请专利范围第11项之非光敏性聚醯亚胺 前驱物组成物,其中该组成物含有至少一共溶剂, 其沸点在约110℃至约230℃之间。 13.依据申请专利范围第12项之非光敏性聚醯亚胺 前驱物组成物,其中该共溶剂系选自于下列所组成 之组群:-戊内酯、-己内酯及-戊内酯、2-己 酮、3-己酮、2-庚酮、3-庚酮及4-甲基-2-戊酮。 14.依据申请专利范围第1项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中该黏着促进剂系选自于式I、II、 IV及V所示者其中之一。 15.依据申请专利范围第1项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中该黏着促进剂系式I所示之一,其 中R1与R2分别独立地为C1-C10线性、环状或分枝之烷 基,或R1与R2其中之一为苯基。 16.依据申请专利范围第9项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中该黏着促进剂系选自于式XVII、 XVIII、XIX及XX所示者所构成之组群。 17.依据申请专利范围第1项之非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物,其中该黏着促进剂占了该组成物重量 的约0.05%至约1.5%。 18.一种用以在一基材上制造一具有图案之聚醯亚 胺构造之方法,该方法包含下列步骤: (a)提供一基材; (b)在一第一涂覆步骤中,在该基材上涂覆一种如申 请专利范围第1项之非光敏性聚醯亚胺前驱物组成 物; (c)在140℃之温度或低于140℃之温度下烘烤该非光 敏性聚醯亚胺前驱物组成物层; (d)在一第二涂覆步骤中,在该非光敏性聚醯亚胺前 驱物组成物层上涂覆一层光阻以形成一双层涂层; (e)将双层涂层曝露于适合该光阻之辐射中; (f)用一种或多种水性显影剂来将双层涂层显影; (g)去除留存之光阻层;以及 (h)令该非光敏性聚醯亚胺前驱物组成物层在至少 约200℃之温度下熟成以制成一聚醯亚胺构造。 19.依据申请专利范围第18项之方法,其中该非光敏 性聚醯亚胺前驱物组成物中之一种或多种聚醯胺 酸系选自于式X之聚醯胺酸所构成之组群中 其中n为约5至约200之整数,其中X与Y独立地选自于 可含有杂环原子之芳香族及脂肪族基团。 20.依据申请专利范围第19项之方法,其中式X之一种 或多种聚醯胺酸为一藉由将至少一种式XI之酸酐 单体与至少一种式XII二胺单体反应而制备 且其中该酸酐单体系选自于下列所构成之组群:3,3 ',4,4'-二苯基四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基硫四羧 酸二酐、3,3',4,4'-二苯基四羧酸二酐、3,3',4,4'- 二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基甲烷四羧酸 二酐、2,2',3,3'-二苯基甲烷四羧酸二酐、2,3,3',4'- 二苯基四羧酸二酐、2,3,3',4'-二苯甲酮四羧酸二酐 、3,3',4,4'-二苯醚四羧酸二酐、2,3,6,7-四羧酸二 酐、1,4,5,7-四羧酸二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基) 丙烷二酐、2,2-双(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2- 双(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐、1,3-二苯基六氟 丙烷-3,3,4,4-四羧酸二酐、1,4,5,6-四羧酸二酐、2, 2',3,3'-二苯基四羧酸二酐、3,4,9,10-四羧酸二酐 、1,2,4,5-四羧酸二酐、1,4,5,8-四羧酸二酐、1,8 ,9,10-菲四羧酸二酐、1,1-双(2,3-二羧基苯基)乙烷二 酐、1,1-双(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2,3,4-苯四 羧酸二酐及1,2,4,5-苯四羧酸二酐, 该二胺单体系选自于下列所组成之组群:5(6)-氨基- 1-(4-氨基苯基)-1,3,3-三甲基满、间-苯撑二胺、 对-苯撑二胺、2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基-1,1'- 二苯基、3,4'-二氨基二苯醚、4,4'-二氨基二苯醚、 3,3'-二氨基二苯醚、2,4-甲苯二胺、3,3'-二氨基二 苯基、3,4'-二氨基二苯基、4,4'-二氨基二苯基 、3,3'-二氨基二苯基甲烷、4,4'-二氨基二苯基甲 烷、3,3'-二氨基二苯基甲烷、3,4'-二氨基二苯基甲 烷、4,4'-二氨基二苯甲酮、3,3'-二氨基二苯甲酮、 3,4'-二氨基二苯甲酮、1,3-双(4-氨基苯氧基)苯、1,3 -双(3-氨基苯氧基)苯、1,4-双(-氨基丙基)四甲基 二矽氧烷、2,3,5,6-四甲基-对-苯撑二胺、间-苯撑 二甲二胺、对-苯撑二甲二胺、甲撑二胺、丁撑二 胺、戊撑二胺、己撑二胺、2,5-二甲基己撑二胺、 3-甲氧基己撑二胺、庚撑二胺、2,5-二甲基庚撑二 胺、3-甲基庚撑二胺、4,4-二甲基庚撑二胺、辛撑 二胺、壬撑二胺、2,5-二甲基壬撑二胺、癸撑二胺 、乙撑二胺、丙撑二胺、2,2-二甲基丙撑二胺、1, 10-二氨基-1,10-二甲基癸烷、2,11-二氨基十二烷、1, 12-二氨基十八烷、2,17-二氨基二十烷、3,3'-二甲基 -4,4'-二氨基二苯基甲烷、双 (4-氨基环己基)甲烷、双(3-氨基降冰片基)甲烷、3, 3'-二氨基二苯基乙烷、4,4'-二氨基二苯基乙烷及4, 4'-二氨基二苯基硫、2,6-二氨基啶、2,5-二氨基 啶、2,6-二氨基-4-三氟甲基啶、2,5-二氨基-1,3, 4-氧二氮茂、1,4-二氨基环己烷、、4,4'-甲撑 二苯胺、4,4'-甲撑-双(邻-氯苯胺)、4,4'-甲撑-双(3- 甲基苯胺)、4,4'-甲撑-双(2-乙基苯胺)、4,4'-甲撑- 双(2-甲氧基苯胺)、4,4'-氧代-二苯胺、4,4'-氧代-双 (2-甲氧基苯胺)、4,4'-氧代-双(2-氯苯胺)、4,4'-硫代 -二苯胺、4,4'-硫代-双(2-甲基苯胺)、4,4'-硫代-双(2 -甲氧基苯胺)、4,4'-硫代-双(2-氯苯胺)、3,3'-磺醯 基-二苯胺及3,3'-磺醯基-二苯胺。 21.依据申请专利范围第20项之方法,其中该酸酐单 体含有一化合物,该化合物系选自于构造式(XIII-XV) 所示之化合物所组成之群组中: 其中Z=系选自于下列所组成之组群:-O-、-S-、-C(CF3) 2-、-CH2-、-SO2-、-NHCO-或-Si(R')2,其中R'为一含有1至8 个碳原子之线性、分枝或环状烷基。 22.依据申请专利范围第21项之方法,其中该二胺单 体系至少一化合物具有结构XVI 其中W=系选自于下列所组成之组群:-O-、-S-、-C(CF3) 2-、-CH2-、-SO2-、-NHCO-或Si(R')2-,R'为含有1至8个碳原 子之线性、分枝或环状烷基。 23.依据申请专利范围第22项之方法,其中Z为-O-且W 为-O-。 24.依据申请专利范围第20项之方法,其中该一种或 多种聚醯胺酸系选自于下列所组成之组群中之一 聚醯胺酸:由4,4'-二氨基二苯醚与3,3',4,4'-二苯醚四 羧酸二酐形成之聚醯胺酸、由4,4'-二胺基二苯醚 与95-85%之3,3',4,4'-二苯醚四羧酸二酐和5-15%之式XI 另一酸酐之混合物所形成之聚醯胺酸。 25.依据申请专利范围第19项之方法,其中在式X之聚 醯胺酸中二胺对二酐单元之比率为约0.9至约1。 26.依据申请专利范围第18项之方法,其中该聚醯胺 酸在该组成物中之百分比为该组成物重量之约6至 约23%。 27.依据申请专利范围第18项之方法,其中该聚醯胺 酸在该组成物中之百分比为该组成物重量之约12 至约22%。 28.依据申请专利范围第27项之方法,其中该溶剂占 了该组成物重量之约74%至约92%。 29.依据申请专利范围第28项之方法,其中该组成物 含有至少一共溶剂,其沸点在约110℃至约230℃之间 。 30.依据申请专利范围第29项之方法,其中该共溶剂 系选自于下列所组成之组群:-戊内酯、-己内 酯及-戊内酯、2-己酮、3-己酮、2-庚酮、3-庚酮 及4-甲基-2-戊酮。 31.依据申请专利范围第18项之方法,其中该黏着促 进剂系选自于式I、II、IV及V所示者其中之一。 32.依据申请专利范围第18项之方法,其中该黏着促 进剂系式I所示之一,其中R1与R2分别独立地为C1-C10 线性、环状或分枝之烷基,或R1与R2其中之一为苯 基。 33.依据申请专利范围第18项之方法,其中该黏着促 进剂系选自于式XVII、XVIII、XIX及XX所示者所构成 之组群 34.依据申请专利范围第18项之方法,其中该黏着促 进剂占了该组成物重量的约0.05%至约1.5%。 35.依据申请专利范围第18项之方法,其中在步骤c) 中,烘烤系在130℃之温度或低于130℃之温度下发生 。 36.一种于一基材上之图案化的聚醯亚胺结构,其系 依据申请专利范围第18项之方法所制成。 |
