| 主权项 |
1.一种投影装置,包含: 一镜阵列,用以形成其中包含若干像素之一投射影 像;以及 一电路,用以针对每一像素而控制该镜阵列,以便 选择性地合成来自该阵列的至少两个镜子之被反 射光线,而调整该像素的强度。 2.如申请专利范围第1项之投影装置,其中该电路针 对每一像素而控制该镜阵列,以便选择性地倾斜该 等至少两个镜子,而将光线反射到与该像素的一位 置相交之一光路径,而调整该像素的强度。 3.如申请专利范围第2项之投影装置,其中该电路针 对每一像素而控制该镜阵列,以便在一较高的强度 位准下使一较大数目的该等至少两个镜子将光线 反射到该光路径,而该较大数目大于在一较低的强 度位准下将光线反射到该光路径的该等至少两个 镜子之一数目。 4.如申请专利范围第1项之投影装置,其中该投射影 像的每一像素系唯一地与该阵列的至少两个镜子 相关联。 5.如申请专利范围第1项之投影装置,其中该投射影 像的每一像素系与该阵列的大致等于该像素的可 能灰阶数目之一数目之镜子相关联。 6.如申请专利范围第1项之投影装置,其中该电路并 不将脉宽调变用来调整每一像素的强度。 7.如申请专利范围第1项之投影装置,其中该阵列的 一第一尺寸系与该投射影像的各像素位置相关联, 且其中该阵列的一不同的第二尺寸系与该等像素 之强度値相关联。 8.如申请专利范围第1项之投影装置,进一步包含: 光学装置,用以针对每一像素而将自该等至少两个 镜子延伸的各光路径合并成与该像素的一位置相 交的一单一之光路径。 9.如申请专利范围第8项之投影装置,其中该光学装 置将由自该镜阵列反射的光线形成之一个二维影 像压缩成该投射影像的一个一维子影像。 10.如申请专利范围第1项之投影装置,其中对于每 一像素而言,系以一个多位元的数位値指示该像素 的强度,且系将该阵列的该等镜子组织成若干不同 的组,而每一组的镜子系与该数位値的一不同位元 相关联。 11.一种投影方法,包含下列步骤: 将一镜阵列用来形成一投射影像,而该投射影像若 干像素;以及 控制该镜阵列,以便选择性地合成来自该阵列的至 少两个镜子之被反射光线,而调整每一像素的强度 。 12.如申请专利范围第11项之投影方法,进一步包含 下列步骤: 针对每一像素而控制该镜阵列,以便选择性地倾斜 该等至少两个镜子,而将光线反射到与该像素的一 位置相交之一光路径,而调整该像素的强度。 13.如申请专利范围第12项之投影方法,其中控制该 镜阵列以便选择性地倾斜之该步骤包含下列步骤: 针对每一像素而控制该镜阵列,以便在一较高的强 度位准下使一较大数目的该等至少两个镜子将光 线反射到该光路径,而该较大数目大于在一较低的 强度位准下将光线反射到该光路径的该等至少两 个镜子之一数目。 14.如申请专利范围第11项之投影方法,进一步包含 下列步骤: 使该投射影像的每一像素唯一地与该阵列的至少 两个镜子相关联。 15.如申请专利范围第11项之投影方法,进一步包含 下列步骤: 使该投射影像的每一像素与该阵列的大致等于该 像素的可能灰阶数目之一数目之镜子相关联。 16.如申请专利范围第11项之投影方法,其中该控制 步骤并不包含将脉宽调变用来调整每一像素的强 度。 17.如申请专利范围第11项之投影方法,进一步包含 下列步骤: 将该阵列的一第一尺寸用来识别该投射影像的各 像素位置;以及 将该阵列的一不同的第二尺寸用来识别该等像素 之强度値。 18.如申请专利范围第11项之投影方法,进一步包含 下列步骤: 将自该等至少两个镜子延伸的各光路径合并成与 该像素的一位置相交的一单一之光路径。 19.如申请专利范围第18项之投影方法,进一步包含 下列步骤: 将由自该镜阵列反射的光线形成之一个二维影像 压缩成该投射影像的一个一维子影像。 20.如申请专利范围第11项之投影方法,其中对于每 一像素而言,系以一个多位元的数位値指示该像素 的强度,且该方法进一步包含下列步骤: 将该阵列的各镜子组织成若干不同的组,而每一组 的镜子系与该数位値的一不同位元相关联。 21.一种投影系统,包含: 聚光光学装置; 一镜阵列;以及 一电路,用以针对每一像素而控制该镜阵列,以便 选择性地将该镜阵列的反射光自该阵列的至少两 个镜子导引到该聚光光学装置,而调整该像素的强 度。 22.如申请专利范围第21项之投影系统,其中该电路 针对每一像素而控制该镜阵列,以使选择性地倾斜 该等至少两个镜子,而将光线反射到与该像素的一 位置相交之一光路径,而调整该像素的强度。 23.如申请专利范围第22项之投影系统,其中该电路 针对每一像素而控制该镜阵列,以便在一较高的强 度位准下使一较大数目的该等至少两个镜子将光 线反射到该光路径,而该较大数目大于在一较低的 强度位准下将光线反射到该光路径的该等至少两 个镜子之一数目。 24.如申请专利范围第21项之投影系统,其中该投射 影像的每一像素系唯一地与该阵列的至少两个镜 子相关联。 25.如申请专利范围第21项之投影系统,其中该投射 影像的每一像素系与该阵列的大致等于该像素的 可能灰阶数目之一数目之镜子相关联。 26.如申请专利范围第21项之投影系统,其中该电路 并不将脉宽调变用来调整每一像素的强度。 27.如申请专利范围第21项之投影系统,其中该阵列 的一第一尺寸系与该投射影像的各像素位置相关 联,且其中该阵列的一不同的第二尺寸系与该等像 素之强度値相关联。 28.如申请专利范围第21项之投影系统,其中对于每 一像素而言,系以一个多位元的数位値指示该像素 的强度,且系将该阵列的该等镜子组织成若干不同 的组,而每一组的镜子系与该数位値的一不同位元 相关联。 29.一种投影系统,包含: 聚光光学装置; 一镜阵列; 被耦合到该镜阵列的一处理器;以及 储存指令的一快闪记忆体,而该等指令使该处理器 针对每一像素而控制该镜阵列,以便选择性地将该 镜阵列的反射光自该阵列的至少两个镜子导引到 该聚光光学装置,而调整该像素的强度。 30.一种包含一储存了指令之电脑可读取的储存媒 体之物品,而当该等指令被执行时,将使一电脑执 行一投影方法,包括下列: 控制一镜阵列,以便产生一投射影像;以及 针对该影像的每一像素而控制该镜阵列,以使选择 性地将该镜阵列的反射光自该阵列的至少两个镜 子而沿着一光路径导引向该投射影像,而调整该像 素的强度。 31.如申请专利范围第30项之物品,进一步包含使该 处理器控制该镜阵列而将被反射的光导引向聚光 光学装置之指令。 32.如申请专利范围第30项之物品,进一步包含使该 处理器将该阵列的各镜子分组成若干组的多个镜 子,而每一组系与该投射影像的一不同像素相关联 ,且每一组的该等镜子共同地形成该相关联的像素 之一灰阶强度。 图式简单说明: 图1是先前技术的一投影系统之一示意图。 图2是先前技术的一镜阵列之一示意图。 图3是根据本发明的一实施例的一镜阵列之一示意 图。 图4示出根据本发明的一实施例而自图3所示之镜 阵列形成的一影像线。 图5示出根据本发明的一实施例的一投影系统。 图6是根据本发明的一实施例的图5所示镜阵列之 一示意图。 图7是根据本发明的一实施例的镜阵列控制电路之 一示意图。 图8是根据本发明的一实施例的图5所示投影系统 的一聚光镜及扫描透镜之一透视图。 |
