发明名称 静电放电NMOS器件及其形成方法,以及电子系统
摘要 一种ESD NMOS结构具有奇数个建立在一个P型阱(6)中的N型结构(4a-4g)。嵌入的N型结构(NBL)被置于该N型结构之间。的N型结构和每个交替的N型结构被相互电连接,到该嵌入的N型结构,并且连接到输出接头(14);而其他N型结构被相互电连接并且连接到该P阱和“地”(10)。当出现一个正向ESD事件时,在该N型嵌入结构和该N型结构之间的P阱中创建一个耗尽区,从而增加该结构的电阻率。另外,当出现正向ESD事件时,在该N型结构的两侧的支路NPN晶体管击穿并且快速恢复。结果电流通过增加电阻的区域,从而从该N型结构向着末端N型结构产生较大的电压。该增加的电阻率和较高的电压作用的组合降低该ESD结构的触发电压。
申请公布号 CN100347855C 申请公布日期 2007.11.07
申请号 CN02820258.9 申请日期 2002.10.18
申请人 快捷半导体有限公司 发明人 罗纳德·布雷特·赫尔法克
分类号 H01L23/62(2006.01) 主分类号 H01L23/62(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 李德山
主权项 1.一种静电放电NMOS器件,其确定与要被保护的电路相接触的输出接头,该器件包括:P型阱,形成于该P型阱中的一系列N型结构,该系列N型结构被分成交替的第一组和交替的第二组,在该系列N型结构附近但与之不接触的N型嵌入结构,N型结构中交替的第一组彼此电连接,N型结构中交替的第二组彼此电连接,从该输出接头到N型结构中交替的第一组的第一电连接,以及从N型结构中的第二组到P型阱并且到一个“地”连接的第二电连接,其中进一步包括建立在该系列N型结构之上但与其电绝缘的栅极结构,该栅极结构基本上桥接每个相邻的N型结构之间的间隙,并且其中该栅极结构浮置。
地址 美国缅因