与被覆光阻并用之涂布组成物

摘要

本发明提供一种与披覆光阻组成物并用之底层涂布组成物。在一态样中，该涂布组成物可经交联并且包括一种或多种成分，该成份系包含一种或多种酸不稳定基团及/或一种或多种交联之后具反应性的硷反应性基团。在另一态样中，本发明提供一种底层涂布组成物，其可经处理以提供经调整的水接触角。较佳的底层涂布组成物可在电浆蚀刻剂中展现出增大的蚀刻速率。此外，较佳的涂布组成物可提升与其并用之光阻组成物的微影特性。