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发明名称
半导体装置及其制造方法
摘要
本发明揭示一种半导体装置及其制造方法。知的半导体装置在对电极焊垫施加过电压时,会有晶片内之电路元件遭到破坏的问题。本发明之半导体装置中,N型磊晶层3是由隔离区域4、5划分成复数个元件形成区域。在元件形成区域之一形成有NPN电晶体1。在NPN电晶体1的周围形成有具备PN接合区域21、22的保护元件。PN接合区域21、22的接合耐压比NPN电晶体1的PN接合区域20低。藉由此构造,对基极电极用焊垫施加负的ESD突波(surge)时,PN接合区域21、22会崩溃,而可保护NPN电晶体1。
申请公布号
TW200742065
申请公布日期
2007.11.01
申请号
TW095148707
申请日期
2006.12.25
申请人
三洋电机股份有限公司
发明人
大竹诚治
分类号
H01L29/73(2006.01);H01L21/76(2006.01);H01L21/328(2006.01);H01L27/04(2006.01)
主分类号
H01L29/73(2006.01)
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
日本
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