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发明名称
光电装置,电子机器及光电装置之制造方法
摘要
本发明之课题在于提供把使闸极绝缘层部分薄化的部分作为保持电容使用的场合,也可以抑制保持电容的电容量的参差不齐或保持电容的耐电压降低之光电装置、电子机器及光电装置之制造方法。本发明之解决手段为在构成液晶装置的保持电容时,形成闸极绝缘层4之厚的下层侧闸极绝缘层4a后,藉由乾蚀刻除去与下电极3c重叠的部分之下层侧闸极绝缘层4a。其次,形成薄的上层侧闸极绝缘层4b,将此上层侧闸极绝缘层4b作为保持电容1h的介电质层4c使用。
申请公布号
TW200742089
申请公布日期
2007.11.01
申请号
TW096109750
申请日期
2007.03.21
申请人
爱普生映像元器件有限公司
发明人
佐藤尚;森田聪
分类号
H01L29/786(2006.01);G02F1/1368(2006.01)
主分类号
H01L29/786(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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