发明名称 图案形成方法及图案形成装置、以及元件制造方法
摘要 本发明,系在晶圆载台(WST)从将晶圆(W)搬入晶圆载台(WST)之装载位置、移动至对晶圆(W)开始曝光之曝光开始位置的期间,一边使对准系统(ALG1, ALG2)之至少一部分移动、一边使用该对准系统(ALG1, ALG2)检测晶圆(W)上之标记。如此,即能提升曝光制程整体之处理量。
申请公布号 TW200741813 申请公布日期 2007.11.01
申请号 TW095149426 申请日期 2006.12.28
申请人 尼康股份有限公司 发明人 柴崎佑一
分类号 H01L21/027(2006.01);G03F9/00(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本