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发明名称 COMPOSITION USEFUL FOR REMOVAL OF POST-ETCH PHOTORESIST AND BOTTOM ANTI-REFLECTION COATINGS
摘要
申请公布号 IL184483(D0) 申请公布日期 2007.10.31
申请号 IL20070184483 申请日期 2007.07.08
申请人 ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 发明人
分类号 G03F 主分类号 G03F
代理机构 代理人
主权项
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