| 发明名称 | 淀积工艺设备用基座以及制造该基座内的加热器的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种淀积工艺设备用基座以及制造该基座内的加热器的方法。所述基座包括位于填充有陶瓷材料的外鞘的一端的隔离层，以使所述陶瓷材料与外部隔离。 | ||
| 申请公布号 | CN100345033C | 申请公布日期 | 2007.10.24 |
| 申请号 | CN200410055714.9 | 申请日期 | 2004.08.04 |
| 申请人 | LG.菲利浦LCD株式会社 | 发明人 | 金弘烈 |
| 分类号 | G02F1/133(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G02F1/133(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李辉 |
| 主权项 | 1、一种用于淀积工艺设备的基座，包括：用于对所述基座进行加热的至少一个加热器，其中所述加热器包括：在所述加热器的两端暴露于外部的导线；连接所述导线的电热丝；包围所述电热丝的外鞘；填充在所述外鞘内的陶瓷材料；以及形成在所述外鞘两端的隔离层，其中，所述隔离层具有大于或等于5g/cm3的芯密度，并且其中，所述隔离层被形成得具有约5mm到约15mm的厚度。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||