发明名称 超细活性硅的加工方法
摘要 本发明公开了一种超细活性硅的加工方法,其特征是,它的加工步骤如下:将洁净的石英砂粉料烘干至含水率小于0.2%;把烘干的石英砂粉料从一个具有1800-3500℃的高温炉的顶口以均匀分散状态送入炉中,使石英砂粉料呈旋浮状态,慢慢下落,保证炉内高温区有5-30秒的加热时间使之活化;活化后的超细粉自然落入高温炉底,排出后立即进行冷却,使之在30分钟内迅速冷却至100℃以下,即成为成品;上面所述的高温炉是采用高能物理技术制成的,炉内的高温区由激光束或等离子束产生。本发明是一种连续生产超细活性硅的加工方法,生产工艺简单、实用,成本低,每吨成本不足200元,填补了超细活性硅生产的空白。
申请公布号 CN101058423A 申请公布日期 2007.10.24
申请号 CN200710013967.3 申请日期 2007.03.28
申请人 张仁水 发明人 张仁水;曲来印;王明远;张小彦
分类号 C01B33/113(2006.01);C04B14/06(2006.01) 主分类号 C01B33/113(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1、一种超细活性硅的加工方法,其特征是,它的加工步骤如下:(1)将洁净的石英砂粉料烘干至含水率小于0.2%;(2)把烘干的石英砂粉料从一个具有1800-3500℃的高温炉的顶口以均匀分散状态送入炉中,使石英砂粉料呈旋浮状态,慢慢下落,保证炉内高温区有5-30秒的加热时间使之活化;(3)活化后的超细粉自然落入高温炉底,排出后立即进行冷却,使之在30分钟内迅速冷却至100℃以下,即成为成品;上面所述的高温炉是采用高能物理技术制成的,炉内的高温区由激光束或等离子束产生。
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