发明名称 卤素类气体的除去方法
摘要 本发明提供一种卤素类气体的除去方法,它能抑制吸附剂的发热而使卤素类气体的处理能力变高,降低使用完的吸附剂的臭气和固体废弃物的产生并容易确认反应的完结。使含有经水分生成选自HF、HCl、HBr及HI中的至少一种的卤素类气体的气体和含有占造粒物总质量的60-99.9质量%的固体碱和0.1-40质量%的碳材料的造粒物在水的存在下进行接触来除去卤素类气体。作为固体碱,最好用碳酸氢钠;作为碳材料,最好用平均细孔半径为0.1-50nm且细孔容积为0.05-4cm<SUP>3</SUP>/g的活性炭。
申请公布号 CN100344345C 申请公布日期 2007.10.24
申请号 CN02819956.1 申请日期 2002.10.11
申请人 旭硝子株式会社 发明人 平野八朗;有马寿一;森要一
分类号 B01D53/68(2007.01);B01J20/20(2006.01);A62D3/00(2007.01) 主分类号 B01D53/68(2007.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 胡烨
主权项 1.卤素类气体的除去方法,其特征在于,使含有和水分反应而生成选自HF、HCl、HBr及HI中的至少一种的卤素类气体的气体与含有占造粒物总质量的60-99.9质量%的碳酸氢钠及/或碳酸氢钾和0.1-40质量%的碳材料的造粒物,在水的存在下进行接触来除去卤素类气体,所述的卤素类气体为选自Cl2、Br2、I2、SiF4、SiH2Cl2、SiCl4、AsCl3、PCl3、BF3、BCl3、BBr3、WF6、ClF3、COF2和COCl2中的至少一种。
地址 日本东京