| 发明名称 | 成像状态调节系统、曝光方法和曝光装置以及程序和信息存储介质 | ||
| 摘要 | 第二通信服务器(930)通过第一通信服务器(920)获得曝光装置(922<SUB>1</SUB>～922<SUB>3</SUB>)中调节单元的调节信息以及涉及当作基准的曝光条件下投影光学系统成像质量(如，波前像差)的信息，并根据该信息计算目标曝光条件下调节单元的最佳调节量。此外，第二通信服务器通过第一通信服务器(920)获得调节的调节信息和投影光学系统成像质量的实际测量数据，并再根据该信息计算在目标曝光条件下调节单元的最佳调节量。第二通信服务器根据计算结果，通过第一通信服务器(920)控制曝光装置中的调节单元。 | ||
| 申请公布号 | CN100345252C | 申请公布日期 | 2007.10.24 |
| 申请号 | CN03802931.6 | 申请日期 | 2003.01.29 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 清水康男;蛭川茂;铃木广介;松山知行 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 车文;顾红霞 |
| 主权项 | 1.一种用在曝光装置中的成像状态调节系统，其利用投影光学系统在物体上形成预定图案的投影图像，所述成像状态调节系统是一种优化所述物体上所述投影图像的形成状态的系统，包括：调节单元，调节所述物体上所述投影图像的形成状态；和计算机，经通信信道连接到所述曝光装置，并利用所述调节单元的调节信息和涉及预定曝光条件下所述投影光学系统成像质量的信息计算目标曝光条件下所述调节单元的最佳调节量。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||