| 主权项 |
1.一种三维立体展示装置,其包含: 一展示腔体,系为立体之空腔体,具有一面可活动 之窗口,腔体内用于放置一展示物体; 复数个光源,系配置于该展示腔体之周围,用于提 供该展示腔体足够之光线; 一第一反射镜,系配置于该展示腔体之底层,用于 支撑该展示物体与可反射该展示物体之光线; 一光绕射元件,系位于该展示腔体之上盖,具有复 数个厚度为周期性变化之光绕射单元晶格,用于将 来自该第一反射镜之反射光线绕射至该展示腔体 上方;以及 一第二反射镜,其一边连接于该光绕射元件,用于 反射来自该光绕射元件之光线并立体成像在该第 二反射镜与该光绕射元件之间。 2.如专利申请范围第1项之三维立体展示装置,其中 该光绕射元件具有一基板,该基版系选自玻璃基板 、铟锡氧化物厚膜与透明光阻中之一种材料。 3.如专利申请范围第1项之三维立体展示装置,其中 该光绕射元件系以微机电制程所制作。 4.如专利申请范围第1项之三维立体展示装置,其中 该光绕射单元晶格之数目系具有2的整数倍阶数。 5.如专利申请范围第4项之三维立体展示装置,其中 该光绕射单元晶格之厚度系为4阶之周期性变化。 6.如专利申请范围第4项之三维立体展示装置,其中 该光绕射单元晶格之长度系以16um为一周期。 7.如专利申请范围第1项之三维立体展示装置,其中 该光绕射单元晶格之介质厚度与折射率决定其入 射光波前之绕射方向。 8.如专利申请范围第1项之三维立体展示装置,其中 该复数个光绕射单元晶格之厚度不大于10um。 9.如专利申请范围第1项之三维立体展示装置,其中 该复数个光绕射单元晶格之绕射角度不大于90度 。 10.如专利申请范围第1项之三维立体展示装置,其 中该第二反射镜与该光绕射元件所形成之一仰角 系介于30~80之间。 11.如专利申请范围第1项之三维立体展示装置,其 中该展示腔体更包含一手把,用于方便使用者开关 该展示腔体,以放置或拿取该展示之物体。 12.如专利申请范围第11项之三维立体展示装置,其 中该展示物体系为透明之材料。 13.如专利申请范围第1项之三维立体展示装置,其 中该第一反射镜系为含水银且反射率不小于95%之 反射镜。 14.如专利申请范围第1项之三维立体展示装置,其 中该第二反射镜系为含水银且反射率不小于95%之 反射镜。 图式简单说明: 第1图显示为根据本发明所揭示之三维立体展示装 置; 第2图显示为该光绕射元件之详细结构侧视图; 第3图显示为根据本发明所揭示之三维立体展示装 置之上视图; 第4图显示为绕射光学元件和折射光学元件在功能 和外型上的差别; 第5a图显示为将平面光经傅氏转换得到许多不同 方向与强度之示意图;以及 第5b图说明第4图之该光绕射元件之分光原理。 |
