发明名称 | 涂布方法、涂布装置及记忆媒体 | ||
摘要 | 在涂布扫描之最后阶段,藉由瞬间性上昇扫描速度,使至此附着或追随于光阻喷嘴之下部侧面78b之弯月面之光阻液膨胀部RQ,自光阻喷嘴78分离,最理想是被丢置于保证区域境界Lx附近。然后,紧接着扫描结束之后,使光阻喷嘴在基板G上执行吸回,依此去除涂布扫描终端部之多于光阻液,此时藉由上述被丢置的光阻液膨胀部RQ消除吸回之影响,依此防止保证区域Es内之光阻膜厚成为设定值或是容许范围以下。 | ||
申请公布号 | TW200738348 | 申请公布日期 | 2007.10.16 |
申请号 | TW096101501 | 申请日期 | 2007.01.15 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 藤田直纪;緖方庸元;若元幸浩 |
分类号 | B05C5/02(2006.01) | 主分类号 | B05C5/02(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |