低阻抗无空隙之接点

摘要

本发明揭示一种插塞系藉由沉积一第一材料以部分填充一开口，并留下一具有比初始开口低之纵横比的未填充部分而形成。随后沉积一第二材料以填充该开口的剩余部分。该第一材料具有良好的填充特性，但具有比该第二材料高的阻抗性。该第二材料具有低阻抗性以赋予该插塞低阻抗。