发明名称 聚合物薄膜之制法及其制造设备
摘要 将涂布液(60)自流延模具(22)流延至流延滚筒(23)上同时形成流延熔珠(62)。将流延熔珠(62)附近之氧浓度设定为0体积%或更大但小于10体积%,静电施加电极(34)施加静电在流延滚筒(23)与流延熔珠(62)之间。形成介入薄膜之装置(32)供应形成介入薄膜之液体(64)至流延滚筒(23)上而形成介入薄膜(65)。一压缩室(30)减压流延熔珠(62)之下游区。因此,可能形成具有稳定形状之流延熔珠(62),并加强流延薄膜(40)与流延滚筒(23)间之黏着的程度。因此,可加强流延滚筒(23)与流延熔珠(62)间之黏着程度,防止空气夹杂的发生现象,及加速薄膜成形之速率,因此形成聚合物薄膜。
申请公布号 TW200738797 申请公布日期 2007.10.16
申请号 TW096106904 申请日期 2007.03.01
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 嘉藤彰史;山崎英数
分类号 C08J5/18(2006.01);B29C41/26(2006.01);B29C41/50(2006.01) 主分类号 C08J5/18(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本