| 主权项 |
1.一种电浆处理装置,其特征为具备: 处理室,其用以产生电浆; 高频电源,其供给高频电力于上述处理室内;以及 特性评价装置,其系插入于将高频电力自上述高频 电源供给至上述处理室的经过路径中; 上述特性评价装置系包含: 高频特性检测电路,其在产生上述电浆为止之高频 电力的范围内,检测出上述处理室之高频特性;以 及 判定电路,其系将上述高频特性检测电路所检测出 之高频特性与上述处理室之制程性能正常时之标 准高频特性予以比较,根据其比较结果,评价上述 制程性能是否正常。 2.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中,上 述判定电路系在上述检测出的高频特性与上述标 准高频特性一致时,评价上述制程性能为正常,在 上述检测出的高频特性与上述标准高频特性不一 致时,评价上述制程性能为异常。 3.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中,进 一步具备检测上述处理室之电浆产生的电浆检测 电路; 上述高频特性评价电路在上述电浆检测电路检测 出上述电浆的产生时,中断上述高频特性的检测。 4.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中,进 一步具备: 另一个高频电源,其将产生上述电浆前的范围的高 频电力供入上述处理室内; 第1开关,其导通/截止从上述高频电源输出的高频 电力对上述处理室的供给;以及 第2开关,其导通/截止从上述另一个高频电源输出 的高频电力对上述处理室的供给; 于上述制程性能的评价时,截止上述第1开关,导通 上述第2开关。 5.如申请专利范围第4项之电浆处理装置,其中,上 述高频特性检测电路系检测来自上述处理室的反 射波相对于从上述另一个高频电源输出的高频电 压入射于处理室的入射波的比的反射系数; 上述判定电路系基于上述检测出的反射系数,评价 上述制程性能。 6.如申请专利范围第4项之电浆处理装置,其中,上 述另一个高频电源系产生将频率固定的高频电力; 上述高频特性检测电路系检测出固定上述高频电 力的频率时的高频特性; 上述判定电路系基于上述检测出的高频特性,评价 上述制程性能。 7.如申请专利范围第4项之电浆处理装置,其中,上 述另一个高频电源系产生在指定范围内使频率变 化的高频电力; 上述高频特性检测电路系检测改变上述高频电力 的频率时的高频特性; 上述判定电路系基于上述检测出的高频特性,评价 上述制程性能。 8.如申请专利范围第7项之电浆处理装置,其中,上 述高频特性为上述处理室的阻抗; 上述判定电路系基于改变上述高频电力的频率时 的阻抗的频率特性及电压与电流的相位差的频率 特性,检测共振频率,基于该检测出的共振频率,评 价上述制程性能。 9.如申请专利范围第8项之电浆处理装置,其中,上 述判定电路系基于上述检测出的共振频率及共振 特性,求取等效电路的电路常数,基于该求得的电 路常数,评价上述制程性能。 10.如申请专利范围第9项之电浆处理装置,其中,上 述共振特性包括较上述共振频率高的频率的特性 、及较上述共振频率低的频率的特性。 11.如申请专利范围第10项之电浆处理装置,其中,上 述共振特性包括高频电压与高频电流的相位差、 及阻抗。 12.如申请专利范围第7项之电浆处理装置,其中,进 一步具备将上述另一个高频电源连接于上述处理 室的电缆; 上述高频特性检测电路系于上述电缆与上述处理 室的连接部,检测上述高频特性。 13.如申请专利范围第12项之电浆处理装置,其中,上 述高频特性为阻抗; 上述判定电路系将预先检测出的上述电缆的阻抗 从上述检测出的阻抗中除去,基于该除去的阻抗, 评价上述制程性能。 14.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中,进 一步具备修正电路,其在由上述高频特性检测电路 所检测出的高频特性偏离上述制程性能为正常时 的标准高频特性时,修正上述高频特性。 图式简单说明: 图1为实施形态1之电浆处理装置的概率方块图。 图2为高频电流与高频电力的关系图。 图3为实施形态2之电浆处理装置的概率方块图。 图4为图3所示监视器的电路图。 图5为电浆的发光强度与高频电力的关系图。 图6为高频电压的波形图。 图7为实施形态2之电浆处理装置的其他概率方块 图。 图8为图7所示电浆处理装置中被检测的阻抗的示 意图。 图9为实施形态3之电浆处理装置的概率方块图。 图10为图9所示根据网路测定器的阻抗测定方法的 说明用图。 图11为实施形态3之电浆处理装置的其他概率方块 图。 图12为图11所示电浆处理装置中被检测的阻抗的容 量成分及电阻成分的示意图。 图13为图11所示电浆处理装置中被检测的阻抗的容 量成分及电阻成分的示意图。 图14为实施形态4之电浆处理装置的概率方块图。 图15为高频电力的频率被固定的情况的电浆处理 装置的等效电路的示意图。 图16为高频电力的频率产生变化的情况的电浆处 理装置的等效电路的示意图。 图17为阻抗及相位的频率依赖性的示意图。 图18为显示型等效电路的方块图。 图19为显示T型等效电路的方块图。 图20为串联连接n个T型等效电路的图。 图21为图14所示电浆处理装置中被检测的阻抗的容 量成分及电阻成分的示意图。 图22为多个电浆处理装置中之蚀刻速度的平均値 的示意图。 图23为实施形态5之电浆处理装置的概率方块图。 图24为说明修正阻抗的方法用的第1方块图。 图25为说明修正阻抗的方法用的第2方块图。 图26为实施形态5之电浆处理装置的其他概率方块 图。 图27为多个电浆处理装置中之蚀刻速度的平均値 的示意图。 图28为实施形态6之电浆处理装置的概率方块图。 图29为习知电浆处理装置的概率方块图。 图30为显示习知电浆处理装置之等效电路的电路 图。 |
