| 主权项 |
1.一种照射一层之方法,其包括: 藉由至少一光学元件将一辐射光束引导且聚焦至 该层的一点处; 让该层相对于该至少一光学元件进行相对移动,致 使连续地照射该层的不同部份,并且于最靠近该层 之该至少一光学元件的表面间维持一间隙;以及 该间隙中让该辐射照射该层上该点的至少一部份 必须维持充满液体,可透过一供应导管来供应该液 体; 其特征为,该液体中至少一部份会注满一凹窝,该 辐射会透过该凹窝来照射该点。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中该凹窝具有一 最靠近该层的框条部份,该框条系延伸在照射该点 的该辐射附近。 3.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该凹窝系 受限于该层和最靠近该层之该至少一光学元件的 表面间的护壁中的通道以及受限于最靠近该层之 该至少一光学元件。 4.如申请专利范围第3项之方法,其中可维持一透过 该通道流出的液体。 5.如申请专利范围第1项之方法,其中该等间隙的最 小厚度系被维持在3-1500 m。 6.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该凹窝包 括最靠近该层之该至少一光学元件的该表面的凹 面部份。 7.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该液体会 从至少一流出开口中流出,该至少一流出开口的形 式为开口朝向该层的至少一沟渠,该沟渠可沿着该 沟渠于纵向方向中来分布所供应的液体,并且将已 分布的液体朝该层散布。 8.如申请专利范围第1或2项之方法,其中介于该层 和最靠近该层之该至少一光学元件的表面间的间 隙的厚度为H,该层和该至少一光学元件彼此间以 速度V来进行相对移动,透过一于平行该层的平面 中所测得的宽度为W的流出开口来供应该液体,而 且流速等于0.5**H*(W + *H)*V,其中为1至10之间 的常数,为1至3之间的常数。 9.一种用以将辐射引导至一层之装置,其包括: 至少一光学元件,用以将源自该辐射源的辐射聚焦 至该层上的一点处; 一移动结构,用以让该层相对于该至少一光学元件 进行相对移动,致使连续地照射该层的不同部份, 并且于该层和最靠近该点之该至少一光学元件的 表面间维持一间隙;以及 一流出开口,用以将液体供应至该间隙中于作业中 让该辐射照射该层上该点的至少一部份; 其特征为于面向该点的表面中有一凹窝,该凹窝的 内表面会限制该间隙中让该辐射照射该点的至少 该部份。 10.如申请专利范围第9项之装置,其中该凹窝具有 一最靠近该层的框条部份,该框条系延伸在该间隙 中于作业中让该辐射照射该点的至少该部份附近 。 11.如申请专利范围第9或10项之装置,其中该凹窝系 受限于该点和最靠近该点之该至少一光学元件的 表面间的护壁中的通道以及受限于最靠近该点之 该至少一光学元件的该表面。 12.如申请专利范围第11项之装置,进一步包括一液 体供应结构,其可和该通道进行交换,以便透过该 通道来维持液体流出的情况。 13.如申请专利范围第9、10或12项之装置,其系被排 列成将该间隙的最小厚度保持在3-1500 pm。 14.如申请专利范围第9、10或12项之装置,其中该凹 窝包括最靠近该点之该至少一光学元件的该表面 的凹面部份。 15.如申请专利范围第9、10或12项之装置,其中该至 少一流出开口的形式为开口朝向该层的至少一沟 渠,用以沿着该沟渠于纵向方向中来分布所供应的 液体,并且将已分布的液体朝该层散布。 图式简单说明: 图1为用以将辐射引导至一层上之一点处的装置范 例的概略侧面图; 图2为如图1所示之装置的光学系统的第一范例的 远端部的概略剖面图,图中显示出将辐射引导至其 上的一层以及于作业中所保持的液体流; 图3为沿着图2中直线III-III的概略仰视图; 图4为如图1所示之装置的光学系统的第二范例的 远端部的概略剖面图,图中显示出将辐射引导至其 上的一层以及于作业中所保持的液体流; 图5为沿着图4中直线V-V的概略仰视图; 图6为如图1所示之装置的光学系统的第三范例的 远端部的概略剖面图,图中显示出将辐射引导至其 上的一层以及于作业中所保持的液体流; 图7为沿着图2中直线VII-VII的概略仰视图; 图8为如图1所示之装置的光学系统的第四范例的 远端部的概略仰视图;以及 图9为用于光学微影术中的晶圆步进机/扫描机的 概略俯视平面图。 |
