发明名称 |
曝光装置 |
摘要 |
本发明提供一种能将空间光调制元件的像,准确地投影到成像面上的曝光装置。配置4分割探测器(26),使存在于曝光区中1个角的4个像素(48<SUB>1</SUB>)、(48<SUB>2</SUB>)、(48<SUB>3</SUB>)、(48<SUB>4</SUB>)(曝光图像的像素),分别与4分割探测器(26)的4个二极管(26<SUB>1</SUB>)、(26<SUB>2</SUB>)、(26<SUB>3</SUB>)、(26<SUB>4</SUB>)相对应。DMD(10)与微透镜阵列(18)之间存在相对位置偏移时,4分割探测器(26)的输出信号(P<SUB>1</SUB>)、(P<SUB>2</SUB>)、(P<SUB>3</SUB>)、(P<SUB>4</SUB>)会产生差异,所以可检测出由DMD(10)的微型镜(像素部分)反射的光束与对应微透镜之间的偏移(光束位置的偏移)。根据检测的偏移量,进行调整微透镜阵列(18)的位置,从而消除了位置偏移。 |
申请公布号 |
CN100342261C |
申请公布日期 |
2007.10.10 |
申请号 |
CN200410031791.0 |
申请日期 |
2004.03.25 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
高田伦久 |
分类号 |
G02B26/08(2006.01);G03B27/54(2006.01) |
主分类号 |
G02B26/08(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李香兰 |
主权项 |
1.一种曝光装置,其特征在于,包括:射出照明用光束的光源;空间光调制元件,其根据各控制信号改变光调制状态的多个像素部分,按2维排列,按上述每个像素部分,调制由上述光源向上述多个像素部分射入的光束;微透镜阵列,其以与上述多个像素部分相对应的间距,按2维排列多个微透镜,并按上述每个微透镜,对由上述像素部分调制的光束进行聚光;偏移量检测机构,其检测由上述像素部分调制的光束与相对应微透镜之间相对位置偏移量;和位置调整机构,其以根据检测的偏移量,对上述空间光调制元件和上述微透镜阵列的至少一方的位置,进行微调整。 |
地址 |
日本神奈川县 |