发明名称 电器件及其制造方法
摘要 提供具有随电压变化的电容的电器件(10),包括半导体材料的第一区(12)及形成于第一区中的半导体材料的第二区(13)和第三区(14),第二和第三区通过隔离区隔离;形成于第一区上至少对应于隔离区的区处的电绝缘层(15);形成于绝缘层上至少对应于隔离区的区处的基本导电元件(16),以便该绝缘层电绝缘基本导电元件与第一、第二和第三区;与基本导电元件连接的第一电极(17);与第二和第三区连接的第二电极(18)。并公开了器件的制造方法。
申请公布号 CN100342553C 申请公布日期 2007.10.10
申请号 CN98809076.7 申请日期 1998.09.01
申请人 艾利森电话股份有限公司 发明人 A·利特温;S·E·马蒂松
分类号 H01L29/93(2006.01);H03B5/24(2006.01);H03L7/099(2006.01);H03B5/12(2006.01) 主分类号 H01L29/93(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 梁永;李亚非
主权项 1.一种具有随电压变化的电容的电器件(10,20,30,40,V1-Vn,70,80),包括:半导体材料的第一区(12,22,32,72,82);形成于第一区中的半导体材料构成的第二区(13,23,33,73,83,91)和第三区(14,24,34,74,84,91),第二和第三区通过隔离区隔离,从而第二区、第三区和基本导电元件分别构成MIS晶体管的漏、源和栅;形成于第一区上至少对应于隔离区的区处的电绝缘层(15,25,35);形成于绝缘层上至少对应于隔离区的区处的基本导电元件(16,26,36,76,86),以便该绝缘层电绝缘基本导电元件与第一、第二和第三区,使得第二区,第三区和基本导电元件分别构成MIS晶体管的漏、源和栅;与基本导电元件连接的第一电极(17,27,37);与第二和第三区连接的第二电极(18,28,38)。
地址 瑞典斯德哥尔摩