G3级氮化硅球加工工艺

摘要

本发明涉及一种G3级直径小于φ16mm氮化硅球的加工工艺。包括：消除内应力、粗磨、初研、精研、超精研、提光、外观计数包装工序，(1)消除内应力在烘干箱或加热炉上将温度加热到130～160℃，时间6～8小时，然后空冷到室温；(2)粗磨、初研、精研、超精研、提光在立式循环研球机上加工；(3)研磨磨料采用320～280目，依据不同工序，由粗到细进行选择；(4)采用氧化铬进行提光。采用本发明加工后氮化硅球表面光亮，球批直径变动量0.09～0.11μm，球直径变动量小于0.08μm，球形误差0.03～0.05μm，表面粗糙度Ra0.004～0.005μm，圆度0.03～0.05μm，产品综合性能指标达到G3级精度要求。

主权项

1.一种G3级氮化硅球加工工艺，其特征在于，包括以下步骤：a.消除毛坯工件内应力；b.粗磨；将步骤a中消除内应力的毛坯工件放入立式循环研球机上进行粗磨加工，并加入油剂和混磨剂，加工后球直径变动量小于0.5μm，球形误差小于0.5μm，表面粗糙度小于0.10μm；c.初研；将粗磨后的工件在立式循环研球机上进行初研加工，并加入油剂和混磨剂，加工后球直径变动量小于0.25μm，球形误差小于0.25μm，表面粗糙度Ra小于0.05μm；d.精研；将初研后的工件在立式循环研球机上进行精研加工，并加入油剂和混磨剂，加工后球直径变动量小于0.12μm，球形误差小于0.12μm，表面粗糙度Ra小于0.012μm；e.超精研；将精研后的工件在立式循环研球机上进行超精研加工，加入油剂，不加混磨剂，加工后球直径变动量小于0.08μm，球形误差小于0.08μm，表面粗糙度Ra小于0.010μm；f.提光处理；将超精研的工件在立式循环研球机上进行提光处理，加工后球表面光亮，球直径变动量小于0.08μm，球形误差小于0.08μm，表面粗糙度Ra小于0.010μm；g.将加工好的氮化硅陶瓷球取出洗净，选择并进行包装。