| 发明名称 | 投影光学设备和曝光装置 | ||
| 摘要 | 一种投影光学设备，其包括投影图案的图像的投影光学系统(PL)；具有柔性结构(36A、36B和36C)以支撑该投影光学系统的支撑设备；和具有致动器以定位该投影光学系统的定位设备。投影光学设备能够包括框架(34)，柔性结构的一端附连到该框架。该投影光学系统可通过该支撑设备从该框架悬挂，或者其可由该支撑设备从下方支撑。投影光学设备还能够包括液体供应设备(48)，其利用重力将温度受控的液体供应至该投影光学系统的侧表面，从而使得该温度受控的液体沿着该投影光学系统的侧表面流动。 | ||
| 申请公布号 | CN101052916A | 申请公布日期 | 2007.10.10 |
| 申请号 | CN200580029077.0 | 申请日期 | 2005.07.18 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 蛯原明光;马丁·E·李;袁宝山 |
| 分类号 | G03B27/32(2006.01);G03B27/42(2006.01);G03B27/52(2006.01) | 主分类号 | G03B27/32(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 许天易;王艳江 |
| 主权项 | 1.一种投影光学设备，包括：投影光学系统，其投影图案的图像；支撑设备，其具有柔性结构以支撑所述投影光学系统；和定位设备，其具有致动器以定位所述投影光学系统。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||