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Eine Vorrichtung (1) zur Plasmabehandlung weist eine Elektrode (2), vor der eine dielektrische Abschirmung (3) angeordnet ist, und eine Wechselhochspannungsquelle (6), um eine Wechselhochspannung an die Elektrode (2) anzulegen, auf, um zur Erzeugung eines Plasmas (9) eine dielektrisch behinderte Gasentladung (11) in einem vor der dielektrischen Abschirmung (3) angeordneten, auf Atmosphärendruck befindlichen Gas (10) hervorzurufen. Die von der Wechselhochspannungsquelle (6) an die Elektrode (2) angelegte Wechselhochspannung erhält das Plasma (11) in einem gegenüber der dielektrischen Abschirmung (3) nur durch das Gas (10) begrenzten Volumen aufrecht.
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