发明名称 Plasma processing equipment and process for performing Shallow Trench Isolation using the same
摘要
申请公布号 KR100763666(B1) 申请公布日期 2007.10.04
申请号 KR20050132740 申请日期 2005.12.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065;H01L21/02;H01L21/76 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
地址