| 发明名称 | 曝光装置及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可以抑制液体的残留的曝光装置。曝光装置(EX)具备：可保持衬底(P)并移动的衬底载台(ST1)；可与衬底载台(ST1)独立地移动的计测载台(ST2)；在衬底载台(ST1)及计测载台(ST2)的至少一个的载台的上面形成液体(LQ)的浸液区域(LR)的浸液机构(12等)。在计测载台(ST2)的上面，设有可回收液体(LR)的回收口(51)。 | ||
| 申请公布号 | CN101048854A | 申请公布日期 | 2007.10.03 |
| 申请号 | CN200580037186.7 | 申请日期 | 2005.10.31 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 藤原朋春;柴崎祐一 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 雒运朴;徐谦 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，经由投影光学系统将衬底曝光，该曝光装置的特征是，具备：第一载台，其在上述投影光学系统的像面侧，在与上述像面大致平行的二维平面内，可保持上述衬底并移动；第二载台，其在上述投影光学系统的像面侧，在与上述像面大致平行的二维平面内，可与上述第一载台独立地移动；浸液机构，其在上述第一载台及第二载台的至少一个的载台的上面形成液体的浸液区域，在上述第二载台的上面或其附近，设有可回收上述液体的回收口。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||