| 发明名称 | 具有微纹的磁头的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种具有微纹(micro－texture)的磁头的制造方法，包括如下步骤：(1)提供由复数磁头构成的长形磁条，其中每个磁头包括一个空气支承面及设于其上的极尖区域(pole tip region)；(2)在所述每个磁头的极尖区域上形成第一保护膜；(3)蚀刻所述磁头的空气支承面而在其上形成凹凸相间的微纹(micro－texture)，所述极尖区域由于第一保护膜的保护而免于被蚀刻；(4)去除覆盖于所述磁头极尖区域上的第一保护膜；(5)在所述磁头的空气支承面上形成第二保护膜。该方法可使磁头的极尖区域在制造过程中不受影响，从而可保证磁头的读写性能，并保证可在磁头的空气支承面及其极尖区域上形成完整的保护膜，从而提高磁头的抗腐蚀性能。 | ||
| 申请公布号 | CN101046969A | 申请公布日期 | 2007.10.03 |
| 申请号 | CN200610075072.8 | 申请日期 | 2006.03.31 |
| 申请人 | 新科实业有限公司 | 发明人 | 方宏新;丁宇;马洪涛;上田国博 |
| 分类号 | G11B5/187(2006.01);G11B5/60(2006.01) | 主分类号 | G11B5/187(2006.01) |
| 代理机构 | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人 | 郝传鑫 |
| 主权项 | 1.一种具有微纹(micro-texture)的磁头的制造方法，包括如下步骤：(1)提供由复数磁头构成的长形磁条，其中每个磁头包括一个空气支承面及设于其上的极尖区域(pole tip region)；(2)在所述每个磁头的极尖区域上形成第一保护膜；(3)蚀刻所述磁头的空气支承面而在其上形成凹凸相间的微纹(micro-texture)，所述极尖区域由于第一保护膜的保护而免于被蚀刻；(4)去除覆盖于所述磁头极尖区域上的第一保护膜；(5)在所述磁头的空气支承面上形成第二保护膜。 | ||
| 地址 | 香港新界沙田香港科学园科技大道东六号新科中心 | ||