发明名称 喹啉衍生物
摘要 本发明涉及式(I)化合物及其药用盐,其中R<SUP>1</SUP>、R<SUP>2</SUP>和A如说明书和权利要求书中定义,还涉及包含这些化合物的药物组合物和它们的制备方法。所述化合物可用于治疗和/或预防与H3受体的调节有关的疾病。
申请公布号 CN101044135A 申请公布日期 2007.09.26
申请号 CN200580035690.3 申请日期 2005.10.07
申请人 霍夫曼-拉罗奇有限公司 发明人 西尔维娅·加蒂麦克阿瑟;科妮莉亚·赫特尔;马蒂亚斯·海因里希·内特科文;苏珊·拉夫;汉斯·里希特;奥利维耶·罗什;罗莎·玛丽亚·罗德里格斯-萨尔米恩托;弗兰泽·舒勒
分类号 C07D401/06(2006.01);C07D215/20(2006.01);A61K31/47(2006.01) 主分类号 C07D401/06(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 柳春琦
主权项 1.通式I的化合物,<img file="A2005800356900002C1.GIF" wi="800" he="247" />其中R<sup>1</sup>选自氢,低级烷基,低级链烯基,环烷基或低级环烷基烷基,其中所述环烷基环可以是未取代的或者被选自低级烷基、低级羟烷基和低级烷氧基烷基中的一个或两个基团取代,低级羟烷基,低级烷氧基烷基,和低级杂环基烷基,其中所述杂环基环可以是未取代的或者被选自低级烷基和卤素中的一个或两个基团取代;R<sup>2</sup>选自氢,低级烷基,低级链烯基,环烷基或低级环烷基烷基,其中所述环烷基环可以是未取代的或者被选自低级烷基、低级羟烷基和低级烷氧基烷基中的一个或两个基团取代,低级羟烷基,低级烷氧基烷基,和低级杂环基烷基,其中所述杂环基环可以是未取代的或者被选自低级烷基和卤素中的一个或两个基团取代;或者R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>与它们连接的氮原子一起形成任选含有另外的选自氮、氧或硫的杂原子的4-、5-、6-或7-元饱和或部分不饱和的杂环,所述饱和或部分不饱和的杂环是未取代的或被一个、两个或三个独立地选自下组的基团取代:低级烷基、卤素、卤代烷基、氰基、羟基、羟烷基、低级烷氧基、氧代基、苯基、苄基、吡啶基和氨基甲酰基;A选自<img file="A2005800356900003C1.GIF" wi="800" he="179" />其中m是0、1或2;R<sup>3</sup>是低级烷基;n是0、1或2;R<sup>7</sup>是低级烷基;p是0、1或2;q是0、1或2;R<sup>5</sup>是氢或低级烷基;及其药用盐。
地址 瑞士巴塞尔