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经营范围
发明名称
曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
摘要
本发明系藉由图案像生成装置(10, 12, PL)生成图案像,使用检测系统(42, 48)以光电方式检测该生成之图案像、或生成而形成在物体上之图案像的至少一部分。修正装置(32)根据该检测结果修正待输入至图案像生成装置之设计资料。因此,对应此修正后设计资料之输入,藉图案像生成装置于物体(P)上生成图案像,以该图案像使物体曝光,即能以良好精度于物体上形成所欲图案。
申请公布号
TW200734828
申请公布日期
2007.09.16
申请号
TW095142353
申请日期
2006.11.15
申请人
尼康股份有限公司
发明人
井上英也;木内彻
分类号
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/306(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
桂齐恒;阎启泰
主权项
地址
日本
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