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发明名称
喷涂用光阻组成物及层合物
摘要
本发明系揭示一种层合物,其为使用含有改性矽氧烷系表面活性剂之光阻组成物,以喷涂法于被涂布面设置段差H为10至1000μm之阶段部1的基板上形成光阻膜2,且光阻膜2系连续被覆于阶段部1之上面1a及侧面1b上,又光阻膜2阶段部上面1a之膜厚为1至40μm,阶段部上面1a与侧面1b之境界部的膜厚为,接邻该境界部之上面1a膜厚的75%以上。
申请公布号
TW200734813
申请公布日期
2007.09.16
申请号
TW095143764
申请日期
2006.11.27
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
先崎尊博;三隅浩一;斋藤宏二
分类号
G03F7/004(2006.01);G03F7/16(2006.01);B05D1/02(2006.01);B05D7/24(2006.01)
主分类号
G03F7/004(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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