半导体结构及其形成方法

摘要

一种半导体结构，包括：一低介电常数介电层；一上盖层，位于该低介电常数介电层上，其中该上盖层包括择自由包括CNx、SiCN、SiCO、SiC及其组合物所组成族群之一材料；一介层物位于该低介电常数层中；以及一金属导线位于该低介电常数介电层中并覆盖该介层物，该金属导线实体接触该介层物。