| 摘要 |
本发明关于一种在奈米转印微影系统内图案化第一基材和第二基材之方法，该方法特别地包含：将该第一基材定位于第一基材夹具上；将一奈米转印材料定位于该第一基材上；在该第一基材和一奈米转印模子组件之间获得一空间关系，并用该奈米转印模子组件将该奈米转印材料内的一图案转印到该第一基材上，并同时地将该第二基材定位于一第二基材夹具上；将该奈米转印模子组件与该第一基材上的该奈米转印材料分离；将一奈米转印材料定位于该第二基材上；从该第一基材夹具移除该第一基材，并同时地在该第二基材和该奈米转印模子组件之间获得一空间关系，并用该奈米转印模子组件将该奈米转印材料里的一图案转印到该第二基材上；将该奈米转印模子组件与该第二基材上的该奈米转印材料分离；以及使该第一基材和该第二基材经受实质相同的制程条件。 |
